pvd鍍膜機的工藝原理及應用

　　pvd鍍膜機是一種在真空條件下，在基片上濺射、蒸發(fā)或離子鍍鈦、金、石墨、晶體等金屬或非金屬、氣體等材料的表層處理技術(shù)。與傳統(tǒng)的化學鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點:對環(huán)境無污染，是一種綠色環(huán)保的工藝;對操作者無傷害;膜層堅固、致密、耐蝕性強、膜厚均勻。pvd鍍膜機技術(shù)中常用的方法有蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等。)和濺射鍍膜(包括DC磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等。)，它們統(tǒng)稱為物理氣相沉積(PVD)。

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　　相應的化學氣相沉積(CVD)稱為CVD技術(shù)。在工業(yè)上通常稱為IP(離子鍍)離子鍍膜，因為在PVD技術(shù)中，各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程，起著重要作用。為了強調(diào)離子的作用，統(tǒng)稱為離子鍍膜。pvd鍍膜機是一種制備薄膜材料的技術(shù)。在真空室中，材料的原子與熱源分離，撞擊到被鍍物體的表層。利用掩模技術(shù)制備光盤上的鋁膜和印刷電路板上的金屬膜。

? ? ? ?真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。蒸發(fā)鍍膜是通過加熱蒸發(fā)將物質(zhì)沉積在固體表層的一種鍍膜。金屬、化合物等蒸發(fā)材料放在坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，而金屬、陶瓷、塑料等則等待鍍基板放在坩堝前。在pvd鍍膜機系統(tǒng)被抽成高真空后，加熱坩堝以蒸發(fā)物質(zhì)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子通過冷凝沉積在基底表層。薄膜厚度范圍從幾百埃到幾微米。薄膜厚度由蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和蒸發(fā)時間(或裝載量)決定，并與源和基底之間的距離有關(guān)。