射頻離子源：陽極膜線性離子源的特色及用途

射頻離子源 根據(jù)陽極層線性封閉漂移的理論，氣體以離子形式在陰極和陽極之間通過，陽極的正電壓與施加在內(nèi)部和外部陰極末端之間的強磁場相互作用，從而 產(chǎn)生等離子體。 驅(qū)動陽極電場以從離子源產(chǎn)生離子束射流。

陽極膜線性離子源的用途

??可用作清理離子源以清理基材表層。

??DLC和光學膜，氧化物，氮化物等可以在磁控濺射過程當中作為離子輔助沉積直接鍍在柔性基板上。

?陽極膜線性離子源的特色

??低氣壓，低電壓，高束流。 陽極膜離子源產(chǎn)生的低能量，高電流離子束可有效去除基材表層上的有機污染物和氧化膜，增加薄膜的附著力，并避免在轟擊時損壞基材（ 例如平板顯示器涂料，柔性基材涂料）。

??沒有燈絲，格柵和中和格柵，它可以長時間穩(wěn)定運行并生產(chǎn)。 從故障到極地維護的平均時間非常高。 由于陽極膜離子源不需要燈絲，空心陰極和其他電子中和器，并且完全經(jīng)過水冷，因此其對涂層環(huán)境溫度的所有變化都很小。 此功能對熱敏性基材的涂層非常有益。 同樣，由于沒有電子中和器，因此可以長時間不維護地工作。

??能適應各種反應氣體和惰性氣體。 陽極膜離子源的結(jié)構(gòu)和材料組成使其完全適用于大多數(shù)反應性氣體，例如氮氣，氧氣和甲烷。

??離子源的長度可以根據(jù)用戶需要制造。