PVD鍍膜機的工作原理

? ? ? ? 物理氣相沉積PVD鍍膜機的工作原理是利用低壓大電流電弧放電技術，在真空條件下對靶材進行氣化和電離氣化。PVD鍍膜機在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD鍍膜機膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中一個裝飾鍍膜膜層的厚度進行一般為0.1μm~1μm，因此我們可以在幾乎同時不影響工件原來不同尺寸的情況下不斷提高以及工件表層的各種學習物理系統(tǒng)性能和化學技術性能，并可以維持工件尺寸設計基本保持不變，鍍后不需再加工。

? ? ? ? PVD鍍膜機進行技術是一種公司可以通過獲得一個微米級鍍層的環(huán)保型材料表層信息處理方式方法，它可以成功制備過程當中各種形式單一金屬膜（如TiAlN、鋁、鈦、鋯、鉻等）、ZrN〔鋯金〕、氮化物膜（TiN[鈦金]）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及其他氧化物膜（如TiO等）。

PVD鍍膜機通常稱謂：涂層、鈦鍍層、真空鍍層、表層處理、 pvd 鍍層、模具鍍層、納米鍍層、真空鍍層、金屬表層處理、零件鍍層、沖壓模具鍍層、鈦鍍層、離子鍍層,真空涂層，納米鍍鈦等. 真空離子鍍膜（PVD）是廣泛應用的工業(yè)超硬薄膜技術，pvd鍍膜機以其高硬度、沖棒鍍鈦，低磨擦系數(shù)、強抗腐蝕性、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能廣泛應用于模具工業(yè)中。

這就是PVD鍍膜機原理。感興趣的可以聯(lián)系我們。